SEIMILUMINOX拋光粉是以稀土元素氧化鈰為主要成份、經(jīng)日本技術生產(chǎn)而成。 H-500氧化鈰拋光粉主要用于光學組件、人工晶體的拋光。 H-500氧化鈰拋光粉的原料為碳酸稀土，和用氟碳鈰精礦做的拋光粉比較，具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點。  用途 光學組件、人工晶體的拋光。  特征 切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞拋光皮、不發(fā)生劃傷、表面精度高。   產(chǎn)品技術參數(shù)（參考數(shù)據(jù)，保證數(shù)值）   品種 平均粒徑（μm） TREO（%） CeO2（%） H-500 1.2—1.6 ≥93 ≥60  ※平均粒徑用激光粒度儀測定。 ※TREO：總氧化稀土含量。