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二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材

產品信息

產品詳細

科研實驗專項使用 二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產品介紹        二氧化硅(SiO2)常溫下為固體,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反應,但溶于氫氟酸及熱濃磷酸,能和熔融堿類起作用。自然界中存在有結晶二氧化硅和無定形二氧化硅兩種。結晶二氧化硅因晶體結構不同,分為石英、鱗石英和方石英三種。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料,是科學研究的重要材料。 產品參數 中文名 二氧化硅       化學式 SiO2          熔點 1650±50℃ 分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 點 2230℃ 純度 99.99% 支持合金靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會盡快為您報價??!  服務項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂! 產品附件:發(fā)貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝 適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備  質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢驗手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。  加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢驗→包裝出庫

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