4、高達(dá)到高平坦化研磨加工。

5、有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。

   納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）使用范圍：

1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導(dǎo)體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過(guò)程。

4、廣泛用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光，如：硅片、化合物晶體、準(zhǔn)確光學(xué)器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工。
5、本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護(hù)液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。

指標(biāo)：