zfcz真空磁控濺射+蒸發(fā)鍍膜機      性能       真空室結構立式雙開門、立式單門、臥式單開門、后置真空獲得系統(tǒng)      電源類型電阻蒸發(fā)電源、離子轟擊電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁控電源      鍍膜室尺寸Ф900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1200×H1400mmФ1400×H1600mmФ1600×H1800mmФ1800×H2000mm      鍍膜室材質優(yōu)質不銹鋼材質      極限真空8.0×10-4Pa      抽氣時間      (空載）      從大氣抽至6.5.0×10-2Pa≤8分鐘      真空獲得系統(tǒng)擴散泵或分子泵+羅茨泵+機械泵+維持泵（型號可根據(jù)客戶的需求進行配置）      鍍膜方式蒸發(fā)鍍膜+磁控濺射鍍膜      鍍膜種類金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁屏蔽膜、介質膜等      磁控靶類型矩形磁控靶、圓柱形磁控靶、孿生磁控對靶      磁控偏壓電源功率及靶數(shù)量根據(jù)不同鍍膜工藝和客戶的需求進行選配      工件回轉較大有限直徑6軸 Ф260mm6軸 Ф280mm       8軸 Ф260mm6軸 Ф360mm       8軸 Ф280mm6軸 Ф420mm       8軸 Ф350mm6軸 Ф460mm       8軸 Ф380mm6軸 Ф560mm       8軸 Ф460mm      蒸發(fā)電極標配2對      蒸發(fā)功率35KW      整機總功率85KW      工藝氣體2路或3路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng) 選配自動加氣系統(tǒng)      冷卻方式水循環(huán)冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業(yè)冷水機。（客戶提供）      工件轉架      轉動方式行星式公自轉、變頻調(diào)速（可控可調(diào)）      控制方式手動/自動一體化方式、觸摸屏操作、PLC或計算機控制      報警及保護對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警，并執(zhí)行相應保護措施。      設備占地面積W3m×L3mW3m×L3mW3.5m×L4mW5m×L5mW6m×L6mW6m×L8m      其他技術參數(shù)水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa      備 注鍍膜設備的具體配置可根據(jù)客戶的鍍膜產(chǎn)品工藝要求進行設計。