一、濺射準備

保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標經(jīng)常是由于不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。 為保持鍍膜的成分特性，濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內(nèi)裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。 暗區(qū)屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時我們建議采用玻璃球拋丸法處理有污垢的部件同時用壓縮空氣清除腔體四周前期濺射剩余物，再用氧化鋁浸漬過的沙紙輕輕的對表面進行拋光。紗紙拋光后, 再用酒精，丙酮和去離子水清洗，同時建議使用工業(yè)吸塵器進行輔助清潔。 高展金屬生產(chǎn)的靶材采用真空密封塑料袋包裝, 
內(nèi)置防潮劑。使用靶材時請不要用手直接接觸靶材。注意：使用靶材時請配帶干凈而且不會起絨的保護手套，避免用手直接接觸靶材

二、靶材清潔

靶材清潔的目的是去除靶材表面可能存在的灰塵或污垢。 
金屬靶材可以通過四步清潔，

靠前步用在丙酮中浸泡過的無絨軟布清潔；

第二步與靠前步類似用酒精清潔；

第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。 
氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進行清潔。

第四步在清除完有污垢的區(qū)域后，再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材， 以除去所有可能在濺射系統(tǒng)中會造成起弧的雜質(zhì)微粒