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金剛石研磨墊

產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳細(xì)

鄭州龍達(dá)研磨墊   金剛砂、龍達(dá)研磨墊優(yōu)缺點對比金剛砂:研磨過程中出現(xiàn)壓裂現(xiàn)象多(增加原材料成本),劃傷嚴(yán)重后期拋光時間長,研磨機(jī)管路需要定期清理(用工成本高),鑄鐵盤消耗快需要反復(fù)修整,研磨過程污染大,后期污水處理難度大(環(huán)保成本高),鏡片不好清洗,良品率低,金剛砂用量大,累計成本高。研磨墊:研磨過程翻盤率低,表面質(zhì)量均勻細(xì)膩、微透亮,良品率96%以上(節(jié)省原材料),鏡片好清洗,后期拋光時間短,良率高,無需定期清理管路(每天使用完清水沖洗即可),僅需消耗研磨液,無其他成本,研磨液消耗少(10倍稀釋),研磨過程干凈(沉淀即可),環(huán)保達(dá)標(biāo)。    龍達(dá)研磨墊4um,9um配合使用,用于手機(jī)蓋板、濾光片、晶體類粗糙度效果好,更利于縮短拋光時間。  例如:9B設(shè)備 使用參數(shù):20轉(zhuǎn)/分,壓力0.2-0.25MPa,120#綠碳化硅油石修盤3-5圈,K9玻璃去除效率200轉(zhuǎn)/0.16mm,鈮酸鋰晶體180轉(zhuǎn)/0.2mm,石英玻璃200轉(zhuǎn)/0.12mm。金剛石研磨墊--利用微粉金剛石與樹脂螯合而成,切削效率高,不劃傷,置于藍(lán)寶石蓋板,襯板的精磨拋光工序,減少拋光前的劃傷處理,是晶圓、CMP研磨拋光、藍(lán)寶石,硅片,玻璃、晶體等材料精磨減薄的產(chǎn)品。典型工藝:藍(lán)寶石切割--金剛石盤粗磨--金剛石盤精磨--減薄墊精磨拋光--拋光墊拋光成型。尺寸:直徑260mm--1100mm;粒度:4μm,9μm,歡迎定制!

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